多光谱硫化锌高表面质量CMP工艺参数优化研究

针对多光谱硫化锌难以在化学机械抛光中获得高表面质量的问题，本文围绕抛光过程中样品平面度与表面粗糙度的协同优化开展实验研究。首先通过单因素实验确定抛光时间，磨粒种类、抛光盘转速与抛光压力的合理取值及范围，在此基础上采用响应曲面法设计实验，引入灰色关联法分析各参数及其交互作用对表面形貌的影响。实验结果表明：抛光盘转速是影响表面质量的主导因素，其次为抛光压力和磨粒粒径。通过模型优化确定最优工艺参数为：磨粒粒径0.5 μm，抛光盘转速55 r/min，抛光压力16 N。在此条件下进行工艺验证，工件表面平面度PV达112.49 nm，粗糙度Sa降至1.11 nm，表面形貌均匀且缺陷较少。通过优化CMP工... View More