ФіЗИКО-ТЕХНОЛОГіЧНі АСПЕКТИ БАГАТОЗАРЯДНОї іМПЛАНТАЦії АРСЕНіД ГАЛіЮ В СТРУКТУРАХ ПРИЛАДіВ і СХЕМ
Published • Jan 1, 2013
NobleIDNI8P54W82R84S93
Authors:,,
Степан Петрович Новосядлий
Тарас Петрович Кіндрат
Любомир Васильович Мельник
Abstract
The development of microelectronics in Ukraine was accompanied by altering of four generations of ion implantation equipment. Nowadays, ion implantation devices of three classes of small and medium doses, high doses and high energies, are used for micro-, opto- and nanoelectronics. For many years, d...
Finding related papers...
Discussions
(0)No comments yet
Be the first to share your thoughts!