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流動層による硫化精鉱焙燒の研究

Published in The chemical machinerey • Jan 1, 1952
NobleIDNI8P21W11R57S33
Authors:
矢木 栄
,
国井 大蔵

Abstract

一般に広い範囲の粒径分布を有する硫化精鉱を焙燒する流動層反應裝置に関して理論的解析を進め,まず流動層に於ける各径粒子の平均滯留時間を求めて,これと粒子の反應完結に要する時間との関係から酸化率が決定されることを論じ,各因子に対してこれを求める理論式を導出して流動層焙燒の機構を明らかにし,実用裝置の解析および設計の便を計つた。

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