等离子体源离子注入高聚物薄膜电性能的改变

一、引言 离子注入技术及低温等离子体技术都应用于材料的表面改性工作. 等离子体源离子注入(PSII)是将二者结合起来的的一种表面改性新方法,它在浸沉于等离子体中的靶极上加负高压脉冲,故正离子可从任意方向打到靶极以达到离子注入的目的. 它与常规离子注入相比,既可省离子加速器,又可不用离子束扫描装置及样品转动装置. 又因它不是“视线型”的,故对形状复杂的样品,更显其优越性. 它注入均匀、效率高且操作方便、成本低,是一种具有发展前途的新技术.