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第三届全国半导体学术会议

Published in Chinese Science Bulletin (Chinese Version) • Jul 1, 1965
Authors:
沛云 陈

Abstract

中国物理学会于1965年4月19—27日在北京科学会堂召开了第三届全国半导体学术会议. 参加这次会议的代表有来自全国各地的生产部门、研究机关和高等院校85个单位的代表167人. 会议收到论文和工作报告161篇,宣读了129篇. 这次会议涉及内容较广泛,质量也较高,代表们认为这些论文比较全面地反映了我国半导体研究工作的现状. 综述会议论文,可概括以下三方面: 1.半导体物理的研究有了新的进展. 论文的内容涉及到寿命的测量和研究、表面物理、能带和光电等几个问题.

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