目ずれマージンを確保した多層ハードマスク法によるデュアルダマシン形成(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
Published in SIAM International Conference on Data Mining • Jan 26, 2004
NobleIDNI2P85W69R04S59
Authors:,,
浩人 大竹
政由 田上
幸司 有田
Subject
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