АНАЛИЗ ВЛИЯНИЯ ЭЛЕКТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ВНУТРЕННЕЕ СОПРОТИВЛЕНИЕ КРЕМНИЕВОГО ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ
Published in Nanoindustry Russia • Jun 30, 2025
NobleIDNI9P71W31R55S13
Authors:,,
А.А. Феклистова
М.В. Рябцева
Е.С. Чуянова
Abstract
В работе представлен анализ изменения внутреннего сопротивления фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) на базе монокристаллического кремния (c-Si) p-типа c пассивированным тыльным контактом после облучения электронами с энергий 1; 5 и 7 МэВ.
Finding related papers...
Discussions
(0)No comments yet
Be the first to share your thoughts!