ИССЛЕДОВАНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК НИКЕЛЯ, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ, ДЛЯ ПРИМЕНЕНИЙ В ЭЛЕКТРОНИКЕ
Published in Nanoindustry Russia • Jun 30, 2025
NobleIDNI5P41W66R84S30
Authors:,,
В.А. Якушев
А.С. Вишневский
Д.А. Абдуллаев
Abstract
Проведен анализ основных структурных и физико-химических свойств тонких пленок Ni, осажденных методом атомно-слоевого осаждения с использованием ацетилацетоната никеля (II) и метанола, выступающего восстановителем. Продемонстрировано влияние атмосферы отжига и подложки на структуру и свойства пленок...
Finding related papers...
Discussions
(0)No comments yet
Be the first to share your thoughts!